Home » Productie Industrie » Productie industrie breed » Machinebouw » ASML verwacht dat high-NA-euv eind dit jaar productierijp is
Door: Redactie - 9 september 2026 |
ASML mikt erop dat zijn high-NA-euv-systemen eind 2026 de beschikbaarheid halen die chipfabrikanten nodig hebben voor grootschalige productie. De Veldhovense machinebouwer wil in het vierde kwartaal uitkomen op 90 procent beschikbaarheid voor de wereldwijde vloot, tegenover 84 procent in juli. Daarmee nadert het 0,55-NA EXE-platform het punt waarop klanten er hun volumeproductie op durven te bouwen.
Het bedrijf heeft laten zien dat de nieuwste TWINSCAN EXE:5200B voldoet aan de belangrijkste eisen voor imaging en productiviteit. Tijdens acceptatietests haalde het systeem een doorvoer van 135 wafers per uur, terwijl de overlay- en focusprestaties in de buurt komen van de 0,33-NA euv-scanners die al jaren in fabrieken draaien. Ook de reticle- en waferstages, die bij high-NA fors sneller moeten bewegen, halen de beloofde snelheid.
Voor de klanten van ASML is dat het bewijs dat high-NA-euv niet langer een laboratoriumbelofte is, maar een werkbaar productiemiddel. De cijfers laten zien dat het platform de sprong van demonstratie naar dagelijkse inzet bijna heeft gemaakt.
De beschikbaarheid ligt echter nog onder het niveau dat je van volwassen productieapparatuur verwacht. ASML werkt daarom aan het terugdringen van geplande downtime en van uitzonderlijk lange storingen. De diagnose- en onderhoudservaring die het met de NXE-systemen opdeed, brengt de fabrikant nu over naar het jongere EXE-platform. Volgens het bedrijf gaat het vooral om het gladstrijken van de laatste operationele oneffenheden, niet om fundamentele tekortkomingen.
“We denken dat we de beschikbaarheid tegen het einde van dit jaar op een stabiel niveau kunnen brengen dat voldoet aan de eisen van klanten wanneer zij overstappen op grootschalige productie”, aldus Greet Storms, die bij ASML het productmanagement van high-NA-euv onder haar hoede heeft. Voor het vierde kwartaal staat 90 procent als doel, op langere termijn moet dat oplopen tot 93 procent.
De snelgroeiende installed base helpt daar flink bij. Inmiddels draaien er tien high-NA-euv-scanners bij vier klanten en zijn nog eens drie machines onderweg of in installatie. Vier klanten die parallel ervaring opbouwen versnellen dat leerproces bovendien, omdat storingen zich zelden op precies dezelfde manier voordoen. Medio juli hadden de EXE-systemen samen al ruim 1,35 miljoen waferbelichtingen achter de rug. Elke belichting levert ASML data op waarmee het storingen sneller opspoort en de betrouwbaarheid opschroeft. Hoe meer machines er in de praktijk draaien, hoe sneller de bekende kinderziektes uit het platform verdwijnen en hoe overtuigender het beschikbaarheidscijfer wordt.
De overstap naar een numerieke apertuur van 0,55 maakt fijnere structuren mogelijk zonder de omweg van meervoudige belichting. Dat scheelt processtappen en dus kosten, precies waar chipmakers voor sub-2nm-logica op zitten te wachten. Voor ASML, van oorsprong een machinebouwer die het uiterste uit optica en precisietechniek perst, is high-NA-euv de logische volgende stap na de bestaande euv-lithografie.
De vraag is nu vooral hoe snel de klanten hun recepten en fabrieken klaarstomen want de machines staan er. Als de beschikbaarheid van high-NA-euv dit kwartaal richting 90 procent kruipt, verschuift het gesprek van of de techniek werkt naar hoe hard hij kan draaien.
Dit artikel delen op je eigen website? Geen probleem, dat mag. Meer informatie.
IndustrieVandaag is een onafhankelijk platform met het laatste nieuws van vandaag over de procesindustrie, industrial processing, productie industrie, maakindustrie en elektronica industrie.
Neem contact met ons op:
Tel +31 (0)23 737 07 63
Email via contactpagina
